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形式研究之点阵偏移（2017）

点阵偏移是一个"附加"的形式探索的试验。试验基于Complex（复杂性）和order（秩序）/chaos（混乱）的关系这个基本概念。complex可理解为"有序的混乱"这样一种状态，而在其中产生作用的是rule（规则）。这里尝试去考察，在形式观感层面，高度秩序控制（例如网格）的总体性下，依据规则产生的混乱是否仍旧反映大的控制特征，或者混乱根本还是秩序的某种变动性？混乱的产生在哪些方面重塑原有的秩序控制，其中的程度差别会有哪些可能层面？即秩序和混乱互相"妥协"或者说共存的规则分寸，以及因此形成的互相影响的途径。试验的方式很简单，预设一个点状矩阵，在逐级细化的网络上，点阵按照规则从轻微到剧烈的发生随机偏移——越大模数上的点偏移越小，越小模数上的点偏移越大。初始单元上的点（简称L1）没有任何偏移，矩阵细化、模数逐级减半的同时，点阵发生越来越大的偏移。L3上的点已经有比较明显的错位。

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初始单元上的点（简称L1）没有任何偏移，矩阵细化、模数逐级减半的同时，点阵发生越来越大的偏移。L3上的点已经有比较明显的错位。

第5级矩阵上的点（简称L5）呈现出远离基础控制的状态，排布规则比较难分辨，但是明显的均质特征还是使其明确的区别于混乱。将L5点的偏移过程图示出来，"同向"（变动区域限定)这个规则的设定表现出很大的约束性。

选择其中一个L1单元做个详解，将所有点分三类表达：所有的未动点（简称UM）分等级表达为灰色锥体（矩阵单元模数越大，锥体体量越大），提示原有矩阵架构；所有移动点（简称M）表达为细柱并示意轨迹，L5产生了最大量的M形成新趋势；所有重合点（2个以上点移动后重合，简称C）表达为环形墙体并示意其来源的范围，C并不多但影响奇特，不仅吸收掉（减少）至少一个点，而且可能改变现存点的属性（UM受"干扰"成新UM）。总体上，目前还算原有矩阵架构的修正和局部强化。

如果偏移允许各种方向并以L5为例，情况复杂了很多，移动轨迹的重复性大大降低。从最终点的布局来看，点的组团感上升，均质的情况不再那么明显，于是更"混乱"一些。

仍旧拿前述那个矩阵单元作详解，UM数量变得非常少（因为多方向变动的几率提高）——很难再提示原有矩阵架构，L5在提供最大量M的基础上混杂度也提升，大量干扰其他等级的点——不仅使得C数量增加很多，也形成了许多M互相交叉的情况。新的布局系统大大远离了原有矩阵架构。

换个图示，将所有UM（灰色）和由C形成的"强化点"（高饱和度）归在一个层面，这个简化的布局图示是新的构架，M因为随机变动归在另一层，表现为混杂机理。原有矩阵网格提示这两个层面之间的规则联系仍存在但已经非常模糊。

矩阵细化到L6，复杂性会成倍的增加吗？效果上看，好像是完全随机机理的模样。

但是从最终点的布局位置来看，L5（黑色）如果还有些凌乱不可辨的话，L6（红色）则似乎在一定程度上"整理"或者"统一"了这种状态。

从局部单元观察，L6的点如雪花一样，将之前的点阵碎片笼罩和衔接起来。复杂性的增加提示了产生复杂性的规则。

我们设想点的偏移在三维方向展开，一个立方体矩阵会呈现怎样的情形呢？这里将发生位移的点的轨迹放大显示出来。

如果按照前述UM、M、C的设定分类表达，UM为细柱，M为界面（由柱移动形成），C表现为一个独立的体量。会呈现一个看似晦涩奥妙的形式模块。

回到顶视图，同样规则下，由三维压缩而来的图形和前面单纯二维的平面相对照，完全是另外一个世界。